AIXTRON

Im Bereich Siliziumhalbleiter bietet das Unternehmen die Technologien Chemical Vapor Deposition (CVD) und Atomic Layer Deposition (ALD) an. Letztere verwendet man unter anderem zur Produktion von Mikrochips, wie zum Beispiel Flash-, DRAM- und eDRAM-Speichern.

Das dritte Geschäftsfeld sind moderne Depositionstechnologien für die kontrollierte Abscheidung kleiner Moleküle und polymerbasierter Schichtsysteme. Das Portfolio von AIXTRON umfasst weiterhin Anlagen für die Deposition von Kohlenstoff-Nanomaterialien, die bei der Herstellung von Kohlenstoff-Nanoröhren, -drähten und Graphen zum Einsatz kommen. Diese neuen Technologien werden zukünftig in Sensoren, Filtern, Energiespeichern und Transistoren genutzt.

Zur Weiterentwicklung betreibt das Unternehmen vier eigene Forschungszentren und Labore in Herzogenrath (Deutschland), Sunnyvale (USA), Cambridge (GB) und Suzhou (China) und arbeitet mit Universitäten, Forschungszentren und Industriepartnern weltweit zusammen.

Die Firma AIXTRON entstand 1983 in Aachen als Ausgründung der RWTH Aachen und entwickelte sich in den folgenden Jahrzehnten zu einem der weltweit führenden Hersteller im Bereich der Halbleitertechnik. Im Jahr 2015 erwirtschaftete AIXTRON einen Umsatz von 197 Millionen Euro, wobei rund 60 Prozent des Umsatzes auf dem asiatischen Markt erzielt werden. AIXTRON-Aktien sind im NASDAQ und TecDax verzeichnet.

Der Sitz des Unternehmens befindet sich in Herzogenrath bei Aachen.

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